ARCNL

Het Advanced Research Center for Nanolithography (ARCNL) is een instituut dat onderdeel uitmaakt van NWO-I, de Institutenorganisatie van NWO. Het ARCNL richt zich op de fundamentele fysica achter de huidige en toekomstige nanolithografische technieken, in het bijzonder voor toepassing in de halfgeleiderindustrie.

ARCNL is opgezet vanuit een samenwerking tussen ASML, NWO (voorheen ook FOM), UvA en VU en vormt een nieuw type organisatie binnen NWO dat het beste van twee werelden combineert:

  1. de voordelen en wetenschappelijke sterkte van NWO
  2. de financiƫn en governance van de private partijen

 Het publiek-privaat gefinancierde ARCNL is een nieuwe vorm van samenwerking, in dit geval tussen ASML, NWO, UvA en VU. ARCNL is gestart bij AMOLF en is vanaf 1 september 2015 een zelfstandig onderzoekscentrum.

Ambitie

Het ARCNL richt zich op de fundamentele fysica achter de huidige en toekomstige nanolithografische technieken, in het bijzonder voor toepassing in de halfgeleiderindustrie. Het wetenschappelijk programma van ARCNL is nauw verbonden met de interessegebieden van ASML. Een groot deel van het initiƫle programma richt zich op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor nanolithografie met extreem ultraviolet (EUV) licht. Het is de ambitie van ARCNL om internationaal een toppositie in het onderzoek op het gebied van de nanolithografie in te nemen.

ARCNL is sinds 1 september 2015 een zelfstandige eenheid binnen de NWO-organisatie. ARCNL maakt gebruik van administratieve en technische ondersteuning van instituut AMOLF.

Website


Adres

Science Park 110
1098 XG Amsterdam

tel: +31 (0)20 851 71 00